在视觉样式之间切换

使用“视觉样式”通过一组预定义的样式更改场景的外观。这些样式采用“视觉样式”菜单中的样例形式。单击其中一个样例时，会有一组特性应用于显示，例如，阴影、光线跟踪、非照片级真实感效果（如单色或卡通色）或诊断样式（如法线显示）。

样式可以帮助您在不更改材质特性的情况下更接近所需的视觉外观。样式图标指示最常用视觉样式的键盘快捷键。活动视觉样式的图标高亮显示。

要打开“视觉样式”菜单，请执行以下操作：

选择“外观”>“视觉样式库”，或按 V 键。

单击某个样例以应用其显示特性。

真实样式：

通过真实样式可以快速调整 Showcase 在默认情况下使用的真实显示。使用这些样式可以启用或禁用阴影，还可启用硬件渲染或光线跟踪。

真实样式范围从具有较高帧速率的基本真实样式到通过降低帧速率来获得的更真实的外观。使用真实样式启用和禁用阴影，即使应用抽象样式，也会保存其状态。

无阴影：	启用硬件渲染并真实地显示材质。禁用阴影和环境遮挡阴影，实现更高的帧速率。请参见优化硬件渲染以提高质量。
环境遮挡阴影：	禁用环境阴影，启用环境遮挡阴影。将使用最近在“环境遮挡阴影”窗口中设定的特性。请参见将环境遮挡阴影添加到曲面。
阴影：	禁用环境遮挡阴影，启用环境阴影。将使用最近在“平行光和阴影”窗口中设定的特性。请参见调整环境光源和阴影。
阴影和环境遮挡阴影：	这是默认的视觉样式。这使环境遮挡阴影和环境阴影两者都适用于更逼真的硬件场景渲染。将使用最近在其各自的窗口中设定的特性。可以随时使用快捷键 D（显示在样例的右上角）启用此样式（即使在“视觉样式”菜单外面）。
光线跟踪：	启用光线跟踪，从而实现最真实的视觉样式。使用光线跟踪时，对象可以相互反射。光线跟踪的其他好处就是具有更加准确的透明度和场景照明渲染。将使用最近在光线跟踪设置中设定的特性。请参见优化光线跟踪以提高帧速率或质量。也可以随时使用快捷键 R（显示在样例的右上角）启用光线跟踪（即使在“视觉样式”菜单外面）。

抽象样式：

通过抽象样式可以访问场景的非照片级真实感渲染 (NPR) 外观。NPR 重点关注高级设计理念，帮助澄清设计仍处于概念阶段。有时这比较适合照片级真实感，这种真实感比较关注细节，并指示设计已完成。

抽象样式以简化的方式显示材质，不会更改材质在真实样式中的渲染方式。抽象样式保持真实样式设定的环境阴影的可见状态。

所有抽象样式都显示几何体边。为了更好地显示几何体边，请启用抗锯齿。请参见优化硬件渲染以提高质量。

单色：	显示未明暗处理的模型。启用几何体边并将材质渲染为其纹理的平均颜色。禁用环境遮挡阴影、反射和环境光源。如果启用环境阴影，它们仅显示在环境的地面上。环境也以此方式进行显示。对于单色背景，请切换到空环境，然后选择背景色。请参见设定首选项。
卡通色：	使用几何体边和材质的平均颜色将场景渲染为卡通插图。不会显示反射和环境遮挡阴影。平行光和阴影在处于活动状态时可见。要使阴影更清晰或更改其方向和颜色，请调整环境光源和阴影。环境是色调分离的。选择环境（如“空”或“白色房间”）以获得更抽象的外观。
明暗处理纹理：	生成模型的明暗处理外观。它显示几何体边并使用纹理渲染材质，但没有反射或凹凸。不会显示反射和环境遮挡阴影。选择使用渐变的环境，如 ID Box Sweep、BP Gradient 或 Photo Studio。
技术：	为演示使用反射材质的模型而构建。启用纹理和环境反射。不显示环境遮挡阴影。几何图形和环境都会被渲染为插图。使用“白色房间”环境或切换为“空”，然后选择背景色。
带边框的真实：	真实地渲染模型，并通过添加几何体边增强外观。启用环境遮挡阴影和环境反射。由真实样式启用时，环境阴影可用。使用任何真实环境，并相应地设定地面位置。请参见确定对象相对于地面的位置。
带边框的环境遮挡阴影：	显示带环境遮挡阴影、边和地面阴影的模型。如果“环境遮挡阴影”类型设定为“预览(即时启动)”，则不显示任何材质。如果类型设定为“烘焙”，显示的烘焙对象将带有环境遮挡阴影和边。未烘焙的对象会显示真实材质和边。请参见应用环境遮挡阴影。

诊断样式：

使用诊断样式，可通过查看镶嵌信息、法线或隔离的环境遮挡阴影来解决场景中的问题。

镶嵌：	启用硬件渲染并显示多边形边，类似于线框显示。（这与 Autodesk Inventor 线框有所不同，后者显示几何体边。）使用此选项可显示镶嵌细节，并可查看其他对象内嵌入的对象。
法线：	在开始应用材质前，最好显示法线以检查所有曲面法线是否均已朝外并执行任何所需的更正。请参见检查曲面法线。也可以随时使用快捷键 F7（显示在样例的右上角）显示法线（即使在“视觉样式”菜单外面）。
仅环境遮挡阴影：	从显示中删除除环境遮挡阴影之外的所有内容。请参见应用环境遮挡阴影。