“照明/着色 > 传递贴图”(Lighting/Shading > Transfer Maps)用于环境光贴图和自定义贴图

如果您已加载 Mayatomr.mll 插件，可以使用“照明/着色 > 传递贴图”(Lighting/Shading > Transfer Maps)工具创建环境光遮挡贴图和自定义贴图。有关该工具的详细信息，请参见“照明/着色 > 传递贴图”(Lighting/Shading > Transfer Maps)。本部分列出了所有 mental ray 特定属性和功能。

如果启用了 Mayatomr.mll 插件（从“窗口 > 设置/首选项 > 插件管理器”(Window > Settings/Preferences > Plug-in Manager)中），“环境光”(Ambient)和“自定义”(Custom)贴图类型也将可用：

注意在每个部分中，您可以：

取消选中贴图类型（如“环境光贴图”(Ambient map)）旁边的框以将其从要生成的贴图列表中移除；
单击“移除贴图”(Remove Map)按钮以从贴图列表中移除贴图；
选中“使用 mental ray 公用设置”(Use mental ray common settings)选项以应用它们；
取消选中“使用 mental ray 公用设置”(Use mental ray common settings)以输入每个传递贴图的自定义设置。
如果要在 Maya 的 mental ray 中渲染法线贴图，您必须将法线贴图保存为可支持的格式（EXR、Maya IFF、JPEG、MI、PNG、YUV、RLA、SGI、PIC、TIM、TGA、BMP）。建议使用 EXR 文件格式。mental ray 不支持 DDS 文件。为法线贴图选择不同的文件格式。此外，您必须打开“Maya 导数”(Maya Derivatives)选项，该选项的路径是：“渲染设置”(Render Settings)窗口，mental ray 选项选项卡，“转换”(Translation)区域，“性能”(Performance)子区域。有关详细信息，请参见“渲染设置: mental ray”(Render Settings: mental ray)选项卡。

您的设置（如已创建并选中的贴图部分）将与 Maya 的每个会话一起保存。

环境光遮挡贴图(Ambient occlusion map)

环境光遮挡贴图(Ambient occlusion map): 仅在加载了Mayatomr.mll插件时可用。当使用环境光时，场景中的对象可能显得太明亮且几何细节可能会丢失。环境光遮挡通过减少环境光和添加阴影解决了这一问题。在每个采样点上，围绕法线向量发射出许多探测光线，它们确定有多少光被场景中的其他几何体阻挡。

当启用时，将生成“环境光遮挡贴图”(ambient occlusion map)。输入要保存贴图的路径和文件名。

“传递贴图”(Transfer Map)工具对高分辨率对象的环境光遮挡求值并将其烘焙到低分辨率对象的贴图。
文件格式(File format): 为要创建的环境光遮挡贴图设定文件格式。请参见文件格式。

当从下拉列表中选择文件格式时，Maya 会自动将相应的文件扩展名附加到环境光遮挡贴图的文件名。例如，如果从下拉列表中选择 gif，.gif 将自动附加到文件名。

同样，如果输入 path/mapname.gif 作为文件名，文件格式选项将自动设定为 gif。
每通道位数(Bits per channel): 指定要在输出位图中使用的每通道位数数目。选项包括 8 位、16 位和 32 位。
优化(Optimization): 选择“针对多个对象”(for multiple objects)以在默认光照贴图模式中烘焙。该烘焙方法是单线程的，对每个对象使用一个线程。对于烘焙多个对象，该方法可以提供更好的性能。

选择“针对单个对象”(for single object)以使用镜头着色器烘焙。镜头的形状将更改为您的几何体的形状。该烘焙方法是多线程的，对每个对象使用多个线程。对于烘焙一个复杂的几何体部分，该方法可以提供更好的性能。
遮挡光线(Occlusion Rays): 确定对每个采样点要跟踪的遮挡光线的数量。增加遮挡光线的数量将提高质量，但会降低性能（速度）。默认值为 64。

提示
调整环境光遮挡贴图质量的最重要参数是“遮挡光线”(Occlusion Ray)属性。遮挡光线最高可以增加到 2048。
最大遮挡距离(Occlusion Max Distance): 确定遮挡光线的最大长度。超过此值的光线不考虑遮挡。
使用 mental ray 公用设置(Use mental ray common settings): 如果要创建多个相同宽度和高度的贴图，您可以在“传递贴图”(Transfer Maps)窗口的“mental ray 公用输出”区域中输入这些设置以重用。

如果取消选中该选项，则窗口的“环境光遮挡贴图”(Ambient occlusion Map)区域中将显示“贴图宽度”(Map width)和“贴图高度”(Map height)属性。有关这些属性的详细信息，请参见 mental ray 公用输出。

自定义贴图(Custom map)

自定义贴图(Custom map): 仅在加载了Mayatomr.mll插件时可用。对高分辨率对象上的自定义着色器求值并将其烘焙到低分辨率对象的贴图。通过使用该贴图，您无需增加渲染时间就可以将几何细节包含于场景中。可使用的自定义着色器示例包括法线贴图（将法线映射到纹理）、凹凸贴图（弯曲法线贴图）、mental ray 材质或着色和照明贴图。

启用时，将使用指定的自定义着色器生成一个自定义贴图。输入要保存贴图的路径和文件名。
文件格式(File format): 为要创建的自定义贴图设定文件格式。请参见文件格式。

当从下拉列表中选择文件格式时，Maya 会自动将相应的文件扩展名附加到自定义贴图的文件名。例如，如果从下拉列表中选择 gif，.gif 将自动附加到文件名。

同样，如果输入 path/mapname.gif 作为文件名，文件格式选项将自动设定为 gif。
每通道位数(Bits per channel): 指定要在输出位图中使用的每通道位数数目。
优化(Optimization): 选择“针对多个对象”(for multiple objects)以在默认光照贴图模式中烘焙。该烘焙方法是单线程的，对每个对象使用一个线程。对于烘焙多个对象，该方法可以提供更好的性能。

选择“针对单个对象”(for single object)以使用镜头着色器烘焙。镜头的形状将更改为您的几何体的形状。该烘焙方法是多线程的，对每个对象使用多个线程。对于烘焙一个复杂的几何体部分，该方法可以提供更好的性能。
自定义着色器(Custom shader): 为要创建的传递贴图指定自定义着色器。
包括阴影(Include Shadows): 将阴影烘焙到自定义贴图。
正交反射(Orthogonal Reflection): 默认情况下该选项处于启用状态。启用后，“正交反射”(Orthogonal Reflection)选项使所有反射光线与要烘焙的曲面正交。它们不再是真实反射光线；相反，它们平行指向曲面法线向量，但稍后从任意方向查看时，结果烘焙纹理或顶点颜色是有意义的。如果生成的纹理或顶点颜色要在游戏引擎中用作纹理，则应启用该选项。

如果您正在烘焙，请关闭该选项，以加速软件渲染并仅从烘焙的位置查看反射。但是，在这种情况下，生成的纹理或顶点颜色不可用作游戏引擎中的纹理。
摄影机(Camera): 指定与所需的视图相对应的摄影机名称。
使用 mental ray 公用设置(Use mental ray common settings): 如果要创建多个相同宽度和高度的贴图，您可以在“传递贴图”(Transfer Maps)窗口的“mental ray 公用输出”区域中输入设置以重用。

如果取消选中该选项，则窗口的“自定义贴图”(Custom Map)区域中将显示“贴图宽度”(Map width)和“贴图高度”(Map height)属性。有关这些属性的详细信息，请参见 mental ray 公用输出。

mental ray 公用输出(mental ray Common Output)

贴图宽度(Map width): 设定要创建的纹理贴图的宽度（以像素为单位）。可以选择下列纹理分辨率：16、32、64、128、256、512、1024、2048、4096。默认的贴图宽度是 256。
贴图高度(Map height): 设定要创建的纹理贴图的高度（以像素为单位）。可以选择下列纹理分辨率：16、32、64、128、256、512、1024、2048、4096。默认的贴图高度为 256。

传入(Transfer in)

选择下列选项之一：

世界空间(World Space): 当对象大小不同时，请使用“世界空间”(World Space)。当传入世界空间时，请确保源对象和目标对象位于场景视图中的相同位置（一个位于另一个的上方）。
对象空间(Object Space): 使用“对象空间”(Object Space)查看传递贴图的结果而不必重叠网格。若要确保对象空间传递起作用，请移动对象使一个位于另一个上方（所有网格的枢轴重叠），冻结对象的所有变换，然后将其分别移动到相邻位置。

采样数(Number of Samples): 使用该选项指定烘焙期间用于抗锯齿的采样数量（每像素）。默认值是 1，最大值是 4。
法线方向(Normal Direction): 使用“法线方向”(Normal Direction)下拉列表设定烘焙对象的结果法线的方向。选项有“朝向摄影机”(Face Camera)（朝向摄影机）、“表面正面”(Surface Front)（对象表面向外）和“表面背面”(Surface Back)（对象表面向内）。
烘焙 Alpha (Bake Alpha): 启用该选项烘焙 Alpha 通道（等效于“Hypershade”菜单栏中的编辑 > 转化为文件纹理(Maya 软件)(Edit > Convert to File Texture(Maya Software)) > 下的“烘焙透明度”(Bake Transparency)选项），然后选择一种“Alpha 模式”(Alpha Mode)。

注意
启用“烘焙 Alpha”(Bake Alpha)后，当添加曲面着色器时将自动建立透明度连接。
Alpha 模式(Alpha mode): 当“烘焙 Alpha”(Bake Alpha)启用时，“Alpha 模式”(Alpha Mode)指定如何计算。选择下列选项之一：“通过”(Pass Through)（Alpha 作为从着色网络的输出）、“表面透明度”(Surface Transparency)、“表面颜色亮度”(Luminance of Surface Color)和“覆盖”(Coverage)。

注意
“通过”(Pass Through)选项主要针对 Maya 中的自定义着色器的使用。返回的烘焙颜色 Alpha 向量将保留且不受 Maya 的蒙版通道影响。自定义着色器通常设定 mental ray 颜色的第四个向量以提供 Alpha 通道。
最终聚集质量(Final Gather Quality): 确定最终聚集预计算质量。从摄影机渲染时，mental ray 在实际渲染场景前预计算最终聚集通道。该预计算通道对烘焙默认处于禁用状态。

如果将该属性设定为大于 0，则 mental ray 在烘焙光照贴图之前会计算多个最终聚集点。如果将该属性设定为 1，则结果光照贴图的质量应该近似于从摄影机渲染出的光照贴图的质量。如果将该属性设定为大于 1，则由于预计算了最终聚集点的更密集贴图，光照贴图的质量将提高。

请不要使用该选项调整烘焙的最终聚集质量。最终聚集质量影响在最终聚集算法的预计算阶段计算的点数。提高最终聚集质量，仅是在预计算期间创建更多点，还可能会减少渲染期间所需的插值量或外推量。提高最终聚集质量不会影响针对每个点计算的光的精确度，也不会影响对数据使用的过滤。

相反，在渲染设置窗口中调整比例。该属性控制针对每个最终聚集点计算的光的准确度。还要调整视图（半径以像素大小为单位）。该属性控制如何在最终聚集点之间将数据插值/外推。
最终聚集反射(Final Gather Reflect): 确定为光照贴图预计算最终聚集点时对象的反射率。对于其纹理贴图受其周围对象影响的反射对象来说，这会简化该反射对象的模拟。例如，如果“最终聚集反射”(Final Gather Reflect)值设定为 0.25，则所有的第四个最终聚集点将在反射光线碰撞到的对象上预计算。
UV 范围(UV range): 指定下列烘焙方式之一：烘焙 UV 空间中从 [0,0] 到 [1,1] 的区域，烘焙整个 UV 空间，烘焙手动指定的空间范围。
U 最小值(U min)、U 最大值(U max): 指定 U 或 V 向量的采样范围的拉伸程度。Maya 会拉伸采样区域以适配 [0,0] 到 [1,1] 采样范围中的输出图像大小。
V 最小值(V min)、V 最大值(V max): 针对烘焙的 V 最小值和 V 最大值。
填充纹理接缝(Fill texture seams): 如果选定的 UV 空间包含边界，则在使用烘焙纹理的渲染中，这些边界可能显示为黑色条纹。如果对纹理进行采样时距离边界太近，导致过滤器从所需空间外部拾取值（通常为黑色），则会发生这种情况。

该设置通过以人工方式精细地延伸边界，缓解了上述问题。它是以 texel（纹素）为单位。通常，该过滤器的直径仅为几 texel，在这些边界空间中只能达到其半径以内的范围，因此值为 1 或 2 通常已足够。