烘焙到纹理和顶点

您可以在 mental ray for Maya 中烘焙到纹理和顶点。

注意选择一个曲面 (A) 并对其进行烘焙然后选择另一个曲面 (B) 并对其进行烘焙，与选择两个曲面（A 和 B）并一起进行烘焙不同。

这在全局照明（对象反弹和吸收场景中其他对象的光线）情况下更为明显。一旦对象被烘焙，即为其指定曲面着色器并且该对象将不再反射场景内的灯光。

烘焙到纹理

烘焙到纹理（相对于到顶点）时将创建名为光照贴图的图像文件。该光照贴图包含已烘焙对象的材质、纹理和照明，您可将其作为文件纹理应用到对象。

在以下位置可以找到该光照贴图图像文件（默认情况下）：Maya\projects\mentalray\lightMap

注意烘焙一张贴图要使用一个内核/处理器。

例如，如果场景中有四个内核和五个对象，则一次生成四张贴图，处理器/核心空闲时生成第五张贴图。

还可以使用网络渲染创建光照贴图。但是，仅当计算机上光照贴图的数量超过处理器/核心的数量时，远程计算机才开始帮助进行烘焙。

烘焙到顶点

当您烘焙到顶点（相对于到纹理）时，将创建数据并将其自动存储在多边形网格的顶点颜色中。

可以将采样存储为逐顶点颜色，或用于置换顶点的位置。

可以将该数据导出为纹理贴图。

烘焙遮挡

烘焙遮挡（使用“纹理烘焙集”(Texture Bake Set)或顶点烘焙集中的遮挡“颜色模式”(Color Mode)）由纹理烘焙集或顶点烘焙集中的相应属性控制。

烘焙到纹理时，遮挡的计算也会根据是否启用“最终聚集”(Final Gathering)采用不同方式。当最终聚集处于禁用状态时，为纹理中的每个像素计算遮挡。如果最终聚集处于启用状态，将为少数选定像素预计算遮挡，然后对其插值。

比较而言，第一种方法（最终聚集处于禁用状态）较慢，但可以捕捉场景中的小细节。通常，插值方法（最终聚集处于启用状态）更快，生成的图像更平滑。这种方法在低分辨率多边形网格上烘焙纹理时尤其有用。