照明/着色 > 批烘焙(mental ray) (Lighting/shading > Batch Bake (mental ray))

 
 
 

使用对象各自的烘焙集设置烘焙选定对象。

此菜单项仅在加载 mental ray Mayatomr.mll 插件(“窗口 > 设置/首选项 > 插件管理器”(Window > Settings/Preferences > Plug-in Manager))后才可访问。

有关烘焙集的详细信息,请参见烘焙集

有关其他渲染器中类似功能的详细信息,请参见编辑 > 转化为文件纹理(Edit > Convert to File Texture)

照明/着色 > 批烘焙(mental ray)(Lighting/shading > Batch Bake (mental ray)) >

要烘焙的对象(Objects to Bake)

从该列表中选择以烘焙所有对象或仅烘焙选定对象。

跳过 initialBakeSets 中的对象(Skip objects in initialBakeSets)

如果从“要烘焙的对象”(Objects to Bake)中选择“全部”(All),则会烘焙所有未指定给初始烘焙集的对象。

有关初始烘焙集的信息,请参见将对象指定给烘焙集

烘焙到(Bake To)

烘焙纹理或顶点。通过“照明/着色”(Lighting/Shading)菜单访问该窗口时,默认设置为“纹理”(Texture)。如果选择顶点,则会使用与烘焙顶点相同的方式烘焙顶点。

烘焙优化(Bake Optimization)

选择“多个对象”(Multiple objects)可以用默认光照贴图模式进行烘焙。该烘焙方法 对每个对象使用一个线程。该方法可以为烘焙多个对象提供更优质的性能。

选择“单个对象”(Single object)可使用镜头着色器烘焙。镜头形状更改为与几何体镜头形状相同。该烘焙方法是多线程的,对每个对象使用多个线程。该方法可以为单个复杂几何体的烘焙操作提供更优质的性能。

烘焙纹理时,只能使用“烘焙优化”(Bake Optimization)

烘焙阴影(Bake Shadows)

启用该选项可烘焙阴影。

摄影机(Camera)

通过指定相应的摄影机名称,选择所需视图。

保持原始着色网络(Keep Original Shading Network)

选中该选项可以保持当前着色网络不变。

如未选中该选项,将创建文件纹理节点并将其附加到对象的当前着色网络。

该选项仅适用于烘焙到纹理的情况。

无论是否选中该选项,纹理文件都将保存到磁盘。

使用烘焙集覆盖(Use Bake Set Override)

将覆盖保存在场景中的纹理“Bakeset”属性,并改为使用下列设置。选中该选项后,“纹理烘焙集覆盖”(Texture Bake Set Override) /“顶点烘焙集覆盖”(Vertices Bake Set Override)选项将处于活动状态。

纹理烘焙集覆盖(Texture Bake Set Override)

预设(Presets)

该选项用于保存和重用为以下属性输入的设置。

颜色模式(Color Mode)

确定场景的烘焙模式。选择下列选项之一:

灯光和颜色(Light and Color)

烘焙灯光和颜色信息。

仅灯光(Only Light)

仅烘焙照明信息。

仅全局照明(Only Global Illumination)

仅烘焙全局照明信息

遮挡(Occlusion)

烘焙遮挡信息。

遮挡光线(Occlusion Rays)

确定每个采样点用于跟踪的遮挡光线数。增加遮挡光线的数量将提高质量,但会降低性能(速度)。默认值为 64。

遮挡衰减(Occlusion Falloff)

确定遮挡光线的最大长度。对于超过该值的光线,将不考虑进行遮挡。

对于纹理烘焙集而言,如未使用“最终聚集”(Final Gather),将为所有采样点计算遮挡。尽管该操作要花费时间,但结果是非常锐利的光照贴图。如果使用了“最终聚集”(Final Gather),且最终聚集质量大于 0,则遮挡将预烘焙到最终聚集贴图。在渲染过程中,稍后可对该最终聚集贴图插值,以便快速地提供一个质量合理的结果。

法线方向(Normal Direction)

使用“法线方向”(Normal Direction)下拉列表设定烘焙对象结果的方向。从“朝向摄影机”(Face Camera)(朝向摄影机)、“表面正面”(Surface Front)(从对象曲面向外)和“表面背面”(Surface Back)(从对象曲面向内)中进行选择。

正交反射(Orthogonal Reflection)

默认情况下此选项为启用。启用后,“正交反射”(Orthogonal Reflection)选项使所有反射光线正交于要烘焙的曲面。它们不再是真正意义上的反射光线,指向变成平行于曲面法线向量,但是当之后从任意方向进行查看时,结果烘焙纹理或顶点颜色都是有意义的。如果生成的纹理或顶点颜色要在游戏引擎中作为纹理使用,则应启用该选项。

如果您正在烘焙,请关闭该选项,以加速软件渲染并仅从烘焙的位置查看反射。但是,在这种情况下,生成的纹理或顶点颜色不会在游戏引擎中作为纹理使用。

前缀(Prefix)

该烘焙集生成的任何位图都将具有该框内键入内容的前缀。如果“烘焙到一个贴图”处于选中状态,那么该框内键入的内容就将成为文件名。

X 分辨率(x resolution)Y 分辨率(y resolution)

图像文件的水平和垂直分辨率,以像素为测量单位。滑块范围是 1 到 512。默认值为 256。

文件格式(File format)

允许您选择保存文件纹理的格式。默认设置为“TIFF”

每通道位数(Bits per channel)

指定用于输出位图的每通道位数。

采样数(Number of Samples)

使用该选项指定烘焙期间用于抗锯齿的采样数量(每像素)。默认值是 1,最大值是 4。

烘焙到一个贴图(Bake to One Map)

指定给该烘焙集的任何对象都将烘焙到贴图。(请确保对象的 UV 未重叠。)

烘焙 Alpha (Bake Alpha)

启用该选项以烘焙 Alpha 通道(相当于 Maya 的“烘焙透明度”(Bake Transparency)选项),然后选择一种“Alpha 模式”(Alpha Mode)

注意

启用“烘焙 Alpha”(Bake Alpha)后,当添加曲面着色器时将自动建立透明度连接。

Alpha 模式(Alpha mode)

“烘焙 Alpha”(Bake Alpha)启用时,“Alpha 模式”(Alpha Mode)指定如何计算。选择下列选项之一:“通过”(Pass Through)(Alpha 作为从着色网络的输出)、“表面透明度”(Surface Transparency)“表面颜色亮度”(Luminance of Surface Color)“覆盖”(Coverage)

注意

“通过”(Pass Through)选项主要适用于 Maya 中自定义着色器的使用。将保留返回的烘焙颜色 Alpha 组件,且该组件不会再受到 Maya 蒙版通道的影响。自定义着色器通常设定 mental ray 颜色的第四个组件以提供 Alpha 通道。

最终聚集质量(Final Gather Quality)

确定最终聚集预计算质量。从摄影机渲染时,mental ray 在实际渲染场景前预计算最终聚集通道。默认情况下,为烘焙禁用该预计算。

当该属性设定大于 0 时,mental ray 将在烘焙光照贴图之前计算一些最终聚集点。当该属性设定为 1 时,结果光照贴图的质量应与从摄影机渲染的光照贴图的质量大致相同。如果将该属性设定为大于 1,则由于预计算了最终聚集点的更密集贴图,光照贴图的质量将提高。

请不要使用该选项调整烘焙的最终聚集质量。最终聚集质量影响在最终聚集算法的预计算阶段计算的点数。提高最终聚集质量,仅是在预计算期间创建更多点,还可能会减少渲染期间所需的插值量或外推量。提高最终聚集质量不会影响针对每个点计算的光的精确度,也不会影响对数据使用的过滤。

相反,在渲染设置窗口中调整比例。该属性控制针对每个最终聚集点计算的光的准确度。还要调整视图(半径以像素大小为单位)。该属性控制如何在最终聚集点之间将数据插值/外推。

最终聚集反射(Final Gather Reflect)

确定为光照贴图预计算最终聚集点时对象的反射率。对于其纹理贴图受其周围对象影响的反射对象来说,这会简化该反射对象的模拟。例如,如果“最终聚集反射”(Final Gather Reflect)值设定为 0.25,则所有的第四个最终聚集点将在反射光线碰撞到的对象上预计算。

UV 范围(UV range)

指定下列烘焙方式之一:烘焙 UV 空间中从 [0,0] 到 [1,1] 的区域,烘焙整个 UV 空间,烘焙手动指定的空间范围。

U 最小值(U min)U 最大值(U max)

滑块值将指定 U 或 V 组件采样范围的拉伸量。Maya 将拉伸采样区域以适配从 [0,0] 到 [1,1] 采样范围内的输出图像大小。

V 最小值(V min)V 最大值(V max)

烘焙的最小 V 值和最大 V 值。

填充纹理接缝(Fill texture seams)

如果选定 UV 空间中包括边界,那么在使用烘焙纹理的渲染中,这些边界就可能显示为黑色条纹。如果对纹理进行采样时距离边界太近,导致过滤器从所需空间外部拾取值(通常为黑色),则会发生这种情况。

该设置通过以人工方式精细地延伸边界,缓解了上述问题。它是以 texel(纹素)为单位。通常情况下,该过滤器直径仅有几 texel,而且在边界空间中最远只能达到半径的位置,所以值通常为 1 或 2 就已足够。

覆盖网格 UV 集指定(Override mesh UV set assignments)

激活该选项可烘焙网格,如同网格位于指定 UV 集中而非位于网格当前关联的 UV 集中。

UV 集名称(UV set name)

在该 textureBakeSet 中供网格使用的 UV 集。

顶点烘焙集覆盖(Vertices Bake Set Override)

预设(Presets)

该选项用于保存和重用为以下属性输入的设置。

颜色模式(Color Mode)

确定场景的烘焙模式。选择下列选项之一:

灯光和颜色(Light and Color)

烘焙灯光和颜色信息。

仅灯光(Only Light)

仅烘焙照明信息。

仅全局照明(Only Global Illumination)

仅烘焙全局照明信息

遮挡(Occlusion)

烘焙遮挡信息。

遮挡光线(Occlusion Rays)

确定每个采样点用于跟踪的遮挡光线数。增加遮挡光线的数量将提高质量,但会降低性能(速度)。默认值为 64。

遮挡衰减(Occlusion Falloff)

确定遮挡光线的最大长度。对于超过该值的光线,将不考虑进行遮挡。

法线方向(Normal Direction)

使用“法线方向”(Normal Direction)下拉列表设定烘焙对象结果的方向。从“朝向摄影机”(Face Camera)(朝向摄影机)、“表面正面”(Surface Front)(从对象曲面向外)和“表面背面”(Surface Back)(从对象曲面向内)中进行选择。

正交反射(Orthogonal Reflection)

默认情况下此选项为启用。启用后,“正交反射”(Orthogonal Reflection)选项使所有反射光线正交于要烘焙的曲面。它们不再是真正意义上的反射光线,指向变成平行于曲面法线向量,但是当之后从任意方向进行查看时,结果烘焙纹理或顶点颜色都是有意义的。如果生成的纹理或顶点颜色要在游戏引擎中作为纹理使用,则应启用该选项。

如果您正在烘焙,请关闭该选项,以加速软件渲染并仅从烘焙的位置查看反射。但是,在这种情况下,生成的纹理或顶点颜色不会在游戏引擎中作为纹理使用。

颜色集名称(Color Set Name)

使用该选项指示要烘焙的颜色集。

烘焙颜色(Bake Color)

当不需烘焙颜色通道时,禁用该属性。该选项处于启用状态时,可以设定“最小颜色”(Min Color)“最大颜色”(Max Color)的值以及“颜色混合”(Color Blending)的方法。默认情况下该属性为启用。

烘焙 Alpha (Bake Alpha)

启用该选项以烘焙 Alpha 通道(相当于 Maya 的“烘焙透明度”(Bake Transparency)选项)。该选项处于启用状态时,可以设定“最小 Alpha”(Min Alpha)“最大 Alpha”(Max Alpha)的值以及“Alpha 混合”(Alpha Blending)的方法。默认情况下该属性为禁用。

缩放 RGBA (Scale Rgba)

使用指定值缩放顶点颜色。

钳制最小值(Clamp Min)钳制最大值(Clamp Max)

启用这些属性来钳制最小颜色、最大颜色、最小 Alpha 以及最大 Alpha 的值,这样即可强制性地让这些值位于设置范围内。

最小 Alpha (Min Alpha)

Alpha 通道的钳制下限。

最大 Alpha (Max Alpha)

Alpha 通道的钳制上限。

最小颜色(Min Color)

钳制顶点颜色的下限。

最大颜色(Max Color)

钳制顶点颜色的上限。

颜色混合(Color Blending)

将现有的顶点颜色与刚刚烘焙的顶点颜色合并(如果存在)。从“颜色混合”(Color Blending)下拉列表中选择合并方法。

Alpha 混合(Alpha Blending)

将现有的顶点 Alpha 与刚刚烘焙的顶点 Alpha 合并(如果存在)。从“Alpha 混合”(Alpha Blending)下拉列表中选择合并方法。

顶点颜色过滤(Vertex Color Filtering)

过滤器大小(Filter Size)

如果最终聚集已烘焙到顶点,且场景中包括高频信息,那么颜色通道中的间断就将显现出来。如果使用了较低的最终聚集质量设置,那么该瑕疵就将格外明显。过滤烘焙顶点颜色将生成所需的平滑外观。

提供一个较小的正过滤器大小作为该形参的实参(该大小与对象边界框大小相乘以获取绝对大小)。将“过滤器大小”(Filter Size)的值设定为 -1 以禁用过滤。将值设定为等于或大于 0 的数以启用过滤。

以 0.1 范围内的值开始,因为该值将与对象边界框的大小相乘以获得绝对大小。该过程还允许位于渲染设置:mental ray 选项卡“间接照明”(Indirect Lighting)选项卡 >“最终聚集”(Final Gathering)区域)中的“精确度”(Accuracy)属性使用较小的值,以获得更快的性能,尽管结果的精确度可能需要考虑在内。

较低的最终聚集质量设置需要更大的过滤器大小,才能获得平滑的外观,而且渲染的精确度较低。通常情况下,只要渲染时间可接受,就应该提高最终聚集质量;然后应增加过滤器的大小,直到获得所需的平滑外观。一个很小的过滤器大小也许足够;它将强制具有相同位置和法线的顶点共享烘焙颜色。

过滤器法线容差(Filter Normal Tolerance)

过滤器法线容差,以度为单位(0 到 180 度)。

该选项允许您调整角度容差以便跨面平滑值。

对于角距大于输入值的顶点,将不会考虑进行过滤,以便在硬边之间保持清晰分明的过渡,同时不会发生不需要的颜色溢出。

调整该选项后,可重复预照明操作来进行测试。当获得较为平滑的结果时,请使用“过滤器大小”(Filter Size)进行进一步地调整。

使用面法线(Use Face Normals)

如果需要指定对烘焙使用面法线,而不使用插值顶点法线(默认用于渲染),请使用该选项。该选项默认为禁用,它以前位于“mental ray 烘焙选项”(mental ray Baking Options)“批烘焙”(Batch Bake))对话框中。