使用对象各自的烘焙集设置烘焙选定对象。
此菜单项仅在加载 mental ray Mayatomr.mll 插件()后才可访问。
有关烘焙集的详细信息,请参见烘焙集。
有关其他渲染器中类似功能的详细信息,请参见编辑 > 转化为文件纹理(Edit > Convert to File Texture)。
>
-
-
-
-
如果从中选择,则会烘焙所有未指定给初始烘焙集的对象。
有关初始烘焙集的信息,请参见将对象指定给烘焙集。
-
-
烘焙纹理或顶点。通过菜单访问该窗口时,默认设置为。如果选择顶点,则会使用与烘焙顶点相同的方式烘焙顶点。
-
-
选择可以用默认光照贴图模式进行烘焙。该烘焙方法 对每个对象使用一个线程。该方法可以为烘焙多个对象提供更优质的性能。
选择可使用镜头着色器烘焙。镜头形状更改为与几何体镜头形状相同。该烘焙方法是多线程的,对每个对象使用多个线程。该方法可以为单个复杂几何体的烘焙操作提供更优质的性能。
烘焙纹理时,只能使用。
-
-
-
-
-
-
选中该选项可以保持当前着色网络不变。
如未选中该选项,将创建文件纹理节点并将其附加到对象的当前着色网络。
该选项仅适用于烘焙到纹理的情况。
无论是否选中该选项,纹理文件都将保存到磁盘。
-
-
将覆盖保存在场景中的纹理属性,并改为使用下列设置。选中该选项后, /选项将处于活动状态。
-
-
-
-
确定每个采样点用于跟踪的遮挡光线数。增加遮挡光线的数量将提高质量,但会降低性能(速度)。默认值为 64。
-
-
确定遮挡光线的最大长度。对于超过该值的光线,将不考虑进行遮挡。
对于纹理烘焙集而言,如未使用,将为所有采样点计算遮挡。尽管该操作要花费时间,但结果是非常锐利的光照贴图。如果使用了,且最终聚集质量大于 0,则遮挡将预烘焙到最终聚集贴图。在渲染过程中,稍后可对该最终聚集贴图插值,以便快速地提供一个质量合理的结果。
-
-
使用下拉列表设定烘焙对象结果的方向。从(朝向摄影机)、(从对象曲面向外)和(从对象曲面向内)中进行选择。
-
-
默认情况下此选项为启用。启用后,选项使所有反射光线正交于要烘焙的曲面。它们不再是真正意义上的反射光线,指向变成平行于曲面法线向量,但是当之后从任意方向进行查看时,结果烘焙纹理或顶点颜色都是有意义的。如果生成的纹理或顶点颜色要在游戏引擎中作为纹理使用,则应启用该选项。
如果您正在烘焙,请关闭该选项,以加速软件渲染并仅从烘焙的位置查看反射。但是,在这种情况下,生成的纹理或顶点颜色不会在游戏引擎中作为纹理使用。
-
-
该烘焙集生成的任何位图都将具有该框内键入内容的前缀。如果“烘焙到一个贴图”处于选中状态,那么该框内键入的内容就将成为文件名。
- 、
-
图像文件的水平和垂直分辨率,以像素为测量单位。滑块范围是 1 到 512。默认值为 256。
-
-
-
-
-
-
使用该选项指定烘焙期间用于抗锯齿的采样数量(每像素)。默认值是 1,最大值是 4。
-
-
指定给该烘焙集的任何对象都将烘焙到贴图。(请确保对象的 UV 未重叠。)
-
-
启用该选项以烘焙 Alpha 通道(相当于 Maya 的选项),然后选择一种。
注意
启用后,当添加曲面着色器时将自动建立透明度连接。
-
-
当启用时,指定如何计算。选择下列选项之一:(Alpha 作为从着色网络的输出)、、和。
注意
选项主要适用于 Maya 中自定义着色器的使用。将保留返回的烘焙颜色 Alpha 组件,且该组件不会再受到 Maya 蒙版通道的影响。自定义着色器通常设定 mental ray 颜色的第四个组件以提供 Alpha 通道。
-
-
确定最终聚集预计算质量。从摄影机渲染时,mental ray 在实际渲染场景前预计算最终聚集通道。默认情况下,为烘焙禁用该预计算。
当该属性设定大于 0 时,mental ray 将在烘焙光照贴图之前计算一些最终聚集点。当该属性设定为 1 时,结果光照贴图的质量应与从摄影机渲染的光照贴图的质量大致相同。如果将该属性设定为大于 1,则由于预计算了最终聚集点的更密集贴图,光照贴图的质量将提高。
请不要使用该选项调整烘焙的最终聚集质量。最终聚集质量影响在最终聚集算法的预计算阶段计算的点数。提高最终聚集质量,仅是在预计算期间创建更多点,还可能会减少渲染期间所需的插值量或外推量。提高最终聚集质量不会影响针对每个点计算的光的精确度,也不会影响对数据使用的过滤。
相反,在渲染设置窗口中调整比例。该属性控制针对每个最终聚集点计算的光的准确度。还要调整视图(半径以像素大小为单位)。该属性控制如何在最终聚集点之间将数据插值/外推。
-
-
确定为光照贴图预计算最终聚集点时对象的反射率。对于其纹理贴图受其周围对象影响的反射对象来说,这会简化该反射对象的模拟。例如,如果值设定为 0.25,则所有的第四个最终聚集点将在反射光线碰撞到的对象上预计算。
-
-
指定下列烘焙方式之一:烘焙 UV 空间中从 [0,0] 到 [1,1] 的区域,烘焙整个 UV 空间,烘焙手动指定的空间范围。
- 、
-
滑块值将指定 U 或 V 组件采样范围的拉伸量。Maya 将拉伸采样区域以适配从 [0,0] 到 [1,1] 采样范围内的输出图像大小。
- 、
-
-
-
如果选定 UV 空间中包括边界,那么在使用烘焙纹理的渲染中,这些边界就可能显示为黑色条纹。如果对纹理进行采样时距离边界太近,导致过滤器从所需空间外部拾取值(通常为黑色),则会发生这种情况。
该设置通过以人工方式精细地延伸边界,缓解了上述问题。它是以 texel(纹素)为单位。通常情况下,该过滤器直径仅有几 texel,而且在边界空间中最远只能达到半径的位置,所以值通常为 1 或 2 就已足够。
-
-
激活该选项可烘焙网格,如同网格位于指定 UV 集中而非位于网格当前关联的 UV 集中。
-
-
在该 textureBakeSet 中供网格使用的 UV 集。
-
-
-
-
确定每个采样点用于跟踪的遮挡光线数。增加遮挡光线的数量将提高质量,但会降低性能(速度)。默认值为 64。
-
-
确定遮挡光线的最大长度。对于超过该值的光线,将不考虑进行遮挡。
-
-
使用下拉列表设定烘焙对象结果的方向。从(朝向摄影机)、(从对象曲面向外)和(从对象曲面向内)中进行选择。
-
-
默认情况下此选项为启用。启用后,选项使所有反射光线正交于要烘焙的曲面。它们不再是真正意义上的反射光线,指向变成平行于曲面法线向量,但是当之后从任意方向进行查看时,结果烘焙纹理或顶点颜色都是有意义的。如果生成的纹理或顶点颜色要在游戏引擎中作为纹理使用,则应启用该选项。
如果您正在烘焙,请关闭该选项,以加速软件渲染并仅从烘焙的位置查看反射。但是,在这种情况下,生成的纹理或顶点颜色不会在游戏引擎中作为纹理使用。
-
-
-
-
当不需烘焙颜色通道时,禁用该属性。该选项处于启用状态时,可以设定和的值以及的方法。默认情况下该属性为启用。
-
-
启用该选项以烘焙 Alpha 通道(相当于 Maya 的选项)。该选项处于启用状态时,可以设定和的值以及的方法。默认情况下该属性为禁用。
-
-
- 、
-
启用这些属性来钳制最小颜色、最大颜色、最小 Alpha 以及最大 Alpha 的值,这样即可强制性地让这些值位于设置范围内。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
-
将现有的顶点颜色与刚刚烘焙的顶点颜色合并(如果存在)。从下拉列表中选择合并方法。
-
-
将现有的顶点 Alpha 与刚刚烘焙的顶点 Alpha 合并(如果存在)。从下拉列表中选择合并方法。
-
-
如果最终聚集已烘焙到顶点,且场景中包括高频信息,那么颜色通道中的间断就将显现出来。如果使用了较低的最终聚集质量设置,那么该瑕疵就将格外明显。过滤烘焙顶点颜色将生成所需的平滑外观。
提供一个较小的正过滤器大小作为该形参的实参(该大小与对象边界框大小相乘以获取绝对大小)。将的值设定为 -1 以禁用过滤。将值设定为等于或大于 0 的数以启用过滤。
以 0.1 范围内的值开始,因为该值将与对象边界框的大小相乘以获得绝对大小。该过程还允许位于渲染设置:mental ray 选项卡(选项卡 >区域)中的属性使用较小的值,以获得更快的性能,尽管结果的精确度可能需要考虑在内。
较低的最终聚集质量设置需要更大的过滤器大小,才能获得平滑的外观,而且渲染的精确度较低。通常情况下,只要渲染时间可接受,就应该提高最终聚集质量;然后应增加过滤器的大小,直到获得所需的平滑外观。一个很小的过滤器大小也许足够;它将强制具有相同位置和法线的顶点共享烘焙颜色。
-
-
过滤器法线容差,以度为单位(0 到 180 度)。
该选项允许您调整角度容差以便跨面平滑值。
对于角距大于输入值的顶点,将不会考虑进行过滤,以便在硬边之间保持清晰分明的过渡,同时不会发生不需要的颜色溢出。
调整该选项后,可重复预照明操作来进行测试。当获得较为平滑的结果时,请使用进行进一步地调整。
-
-
如果需要指定对烘焙使用面法线,而不使用插值顶点法线(默认用于渲染),请使用该选项。该选项默认为禁用,它以前位于()对话框中。