特定のシェイプの個別のインスタンスを異なるマテリアルに関連付けられるように、各 UV セットをインスタンスに個別に関連付けられるようになりました。これは、オブジェクトのインスタンスのシャドウをベイク処理する際(ゲーム レベルのライティングなど)、または複数のテクスチャを持つ単一シェイプのインスタンスを作成する際(多数のボックスのうち、一部はさまざまな位置に穴が開いたボックスにするなど)に非常に便利です。
UV セットがインスタンス単位である場合、UV セット ファミリという言葉は、異なるインスタンスに適用される接続された UV セットを意味します。1 つのファミリでは、単一の UV セットが 1 つまたは複数のインスタンスに適用される場合があります。
この UV セットを共有(Shared)するか(すべてのインスタンスがこの UV セットを持ちます)、インスタンス単位で共有(Per Instance Shared) (選択したすべてのインスタンスが新規 UV セットを共有します)、またはインスタンス単位で共有しない(Per Instance Unshared) (選択したすべてのインスタンスが固有の UV セットを取得します)を選択することができます。
インスタンス オブジェクトをレンダーするとき、あるいはハードウェア テクスチャリングによってシーン ビューにインスタンス オブジェクトを表示するときに、さまざまな(インスタンス単位の) UV マッピングが表示されるようになります。
例: インスタンス単位の UV セットを持つ単一シャドウ マップのベイク処理
次の例では、インスタンス単位の UV セットを使用して単一のマップにシャドウをベイク処理しています。この時点で、シーンのライトを削除することができます。このワークフローは、ゲーム レベルのオブジェクトにテクスチャ マップを作成する場合に便利です。
ベイク処理の詳細については、ライティング/シェーディング > バッチ ベイク(mental ray) (Lighting/shading > Batch Bake (mental ray))を参照してください。
この単純なシーンには、シャドウを投影する長い円柱、ディレクショナル ライト、16 × 16 のサブディビジョンを持つ小さいプレーン、そのプレーンの 2 つの追加インスタンスがあります。
必要に応じてライトの方向を調整し、シャドウが上記のレンダー結果のように、異なる位置で各ポリゴン インスタンスに適用されるように再度レンダーしてください。
これで、プレーン上でインスタンス単位の UV セットを作成できるようになりました。
これで UV 空間で UV がオーバーラップしないインスタンス単位の UV セットが作成されました ( UV テクスチャ エディタ(UV Texture Editor)を使用すると、これを確認し、必要な場合には UV を移動することができます)。
シャドウがベイク処理されて、正しくリンクされます。シェーディング モード(ホットキー: 6)または高精度レンダリング モードの場合は、この結果をシーン ビューで確認することができます。
UV セット ファミリをインスタンス間で共有できるようになっため、UV セットの削除処理が弱冠変更されました。
たとえば、myMap という名前のインスタンス単位のセット ファミリに、2 つの子セットが含まれているものとします。1 つは複数のインスタンス(インスタンス a、b、c)に適用され、もう 1 つはインスタンス d にのみ適用されます。これが現在の UV セットです。インスタンス d を選択して、現在の UV セットの削除(Delete Current UV Set)を選択すると、インスタンス d のマップのみが削除されます (その他の UV マップは非選択インスタンスに使用されており、削除されません)。
次に、インスタンス a を選択して、現在の UV セットの削除(Delete Current UV Set)を選択すると、この UV セットはインスタンス a と共有されなくなりますが、インスタンス b と c には依然として存在します。これをまとめて削除するには、インスタンス b と c を選択してから、現在の UV セットの削除(Delete Current UV Set)を選択します。