次のセクションでは、大部分のマテリアル間で共有されている mental ray アトリビュートについて説明します。
これは、間接的なフォトンを反射する機能です。これを使用して入射イルミネーション マップをマッピングします(ライティング/シェーディング > バッチ ベイク(mental ray) (Lighting/shading > Batch Bake (mental ray))を使用して生成されるイルミネーション マップなど)。一般的なベイク処理については、イルミネーションとカラーをベイク処理するを参照してください。
ライトがサーフェスの下でどこまで分散するかを定義します。mental ray では、入射光と分散半径が同じ間隔の場合、そのライトはすべてマテリアルに吸光されたと仮定します。分散半径(Scatter Radius)アトリビュートはワールド空間単位で表され、その既定値は 0 です。
値 0 は、分散がオフになっていることを意味します。他の分散アトリビュートを設定するには、分散半径(Scatter Radius)を 0 より大きい値に設定する必要があります。
2 次的な反射または屈折のぼかしを定義します。反射/屈折ブラー制限(Reflection / Refraction Blur Limit)が大きいほど、2 次的な反射 / 屈折がぼかされます。
グローバル設定である反射/屈折ブラー制限(Reflection/Refraction Blur Limit)は、レンダー設定(Render Settings): mental ray タブ、精度(Quality)タブにも存在します。2 つの値のうち小さい方が有効になります。したがって、推奨ワークフローはグローバル制限値を上げて、精度を下げる必要のあるオブジェクトの制限を軽減することです。
完全なスペキュラ方向からのランダム偏差をサンプリングするために使用する光線の数を指定します。(ぼやけた反射と屈折は、この機能では光線の方向は定義されていないため、スーパーサンプリングを必要とします。MiReflection/MiRefraction ブラーで指定された境界内部で、完全なスペキュラ方向からのランダム偏差が生じる場合があります。
一般的に、よりぼやけた反射または屈折に対しては、より多くの光線が必要です。他のサンプリング パラメータもこの設定に影響を与えます(オブジェクト当たりサンプル数とイメージ空間のスーパーサンプルを設定するレンダー設定(Render Settings)サンプル)。これらの 2 つの設定のいずれかを増加すると、パフォーマンスを大幅に改善しつつ、質を落とさないで光線の数を減らすことができる場合があります。
フォトン アトリビュート(Photon Attributes)
Maya から派生したアトリビュートを設定したり、オプションをオフにしてスペキュラ カラー(Specular Color)や拡散(Diffuse)などそれ以外のアトリビュートを設定します。したがって、こういったアトリビュートは mental ray を使用して計算が行われます。このアトリビュートを使わずに、アトリビュート エディタの Maya セクションの設定(マテリアルの共通アトリビュートなど)を変更し、Maya から設定を取得(Take Settings From Maya)をクリックしてこれらのアトリビュートに相当する mental ray 値を算出することもできます。